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Halothane et enflurane dans les blocs opératoires : exposition et prévention

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<dc:creator>Garnière-Monteil, C.</dc:creator>
<dc:date>1993</dc:date>
<dc:description xml:lang="es">Sumario: Le risque toxique dû à l'exposition aux anesthésiques volatils du personnel travaillant dans les blocs opératoires est encore mal connu. Certaines études font état d'aberrations chromosomiques chez le personnel exposé, ou d'une augmentation significative du risque d'avortement spontané. D'autres études concluent à une absence de risque. Ceci met en évidence l'importance de la surveillance du personnel exposé. La mesure des taux d'exposition a été réalisée dans deux blocs opératoires du C.H.U. de Nantes: ophtalmologie et oto-rhino-laryngologie (O.R.L.). L'interprétation des résultats est délicate en raison de la diversité des valeurs limites d'exposition d'un pays à un autre. Nous constatons tout de même que le personnel est exposé, certains jours, à des taux assez élevés</dc:description>
<dc:identifier>https://documentacion.fundacionmapfre.org/documentacion/publico/es/bib/45547.do</dc:identifier>
<dc:language>fre</dc:language>
<dc:rights xml:lang="es">InC - http://rightsstatements.org/vocab/InC/1.0/</dc:rights>
<dc:subject xml:lang="es">Higiene industrial</dc:subject>
<dc:subject xml:lang="es">Anestésicos</dc:subject>
<dc:subject xml:lang="es">Halotano</dc:subject>
<dc:subject xml:lang="es">Enflurano</dc:subject>
<dc:subject xml:lang="es">Gases tóxicos</dc:subject>
<dc:subject xml:lang="es">Contaminación atmosférica</dc:subject>
<dc:subject xml:lang="es">Personal sanitario</dc:subject>
<dc:subject xml:lang="es">Riesgo laboral</dc:subject>
<dc:type xml:lang="es">Artículos y capítulos</dc:type>
<dc:title xml:lang="es">Halothane et enflurane dans les blocs opératoires : exposition et prévention</dc:title>
<dc:title xml:lang="es">Título: Archives des maladies professionnelles et de médecine du travail</dc:title>
<dc:relation xml:lang="es">En: Archives des maladies professionnelles et de médecine du travail. - Paris [etc.]. - nº 7, 1993 ; p. 563-568</dc:relation>
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