ALTREX : un logiciel pour l'analyse statistitque et l'interprétation des résultats de mesures : cas des expositions professionnelles aux agents chimiques et au bruit

<?xml version="1.0" encoding="UTF-8" standalone="no"?>
<rdf:RDF xmlns:rdf="http://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#" xmlns:dc="http://purl.org/dc/elements/1.1/" xmlns:xsi="http://www.w3.org/2001/XMLSchema-instance">
<rdf:Description>
<dc:creator>Vincent, R.</dc:creator>
<dc:creator>Altrex</dc:creator>
<dc:date>1998-07-01</dc:date>
<dc:description xml:lang="es">Sumario: L'interprétation des résultats de mesures d'exposition est une phase importante dans l'évaluation des expositions aux nuisances sur les lieux de travail. Les méthodologies d'analyse statistique, recommandées par diverses normes, ont donné lieu à la réalisation du logiciel ALTREX. Les différents tests mis en oeuvre permettent d'analyser la variabilité des dépassement des valeurs limites d'exposition professionnelle. ALTREX permet de traiter des résultats de mesures d'exposition à deux types de nuisances: les agents chimiques et le bruit</dc:description>
<dc:identifier>https://documentacion.fundacionmapfre.org/documentacion/publico/es/bib/52071.do</dc:identifier>
<dc:language>fre</dc:language>
<dc:rights xml:lang="es">InC - http://rightsstatements.org/vocab/InC/1.0/</dc:rights>
<dc:subject xml:lang="es">Higiene industrial</dc:subject>
<dc:subject xml:lang="es">Análisis estadístico</dc:subject>
<dc:subject xml:lang="es">Programas informáticos</dc:subject>
<dc:subject xml:lang="es">Valores TLV</dc:subject>
<dc:subject xml:lang="es">Productos químicos</dc:subject>
<dc:subject xml:lang="es">Ruido</dc:subject>
<dc:subject xml:lang="es">Análisis de resultados</dc:subject>
<dc:type xml:lang="es">Artículos y capítulos</dc:type>
<dc:title xml:lang="es">ALTREX : un logiciel pour l'analyse statistitque et l'interprétation des résultats de mesures : cas des expositions professionnelles aux agents chimiques et au bruit</dc:title>
<dc:relation xml:lang="es">En: Cahiers de notes documentaires. - Paris. - nº 172, 3e. trimestre 1998 ; p. 273-281</dc:relation>
</rdf:Description>
</rdf:RDF>